RISE GATE NIHONBASHI

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半導体の「進化」と「共創」を灯す、ダイクロイックフィルムの輝き

所在地: 東京都中央区
竣工: 2025年9月
施主: 三井不動産株式会社、一般社団法人RISE-A
設計: 三井デザインテック株式会社
電気工事: 株式会社ビルドエスアンドアール

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「RISE GATE NIHONBASHI」は、国内外の半導体に関わる人々が集い、連携を深めるためのワークスペース。 ラウンジやカンファレンスミーティングルームも備えられ、サービスオフィスを保有する半導体のユーザー、サプライヤー、サポーターを繋ぐコミュニティスペースとしても機能している。 コンセプトに「BRANCH(ブランチ)」を掲げ、植物が光に向かって枝を広げる成長の姿と、半導体回路が分岐・接合する様子を重ね合わせ、産業全体の発展と人々の交流を表現している。 光学薄膜技術を応用した「ダイクロイックフィルム」のガラスは、見る角度や光の性質によって色彩が変化。 人・技術・製品が重なり新たな色を生み出す共創の姿と、半導体産業全体の成長を表現している。カラー配置は、 下段の赤〜オレンジ色系から上段の緑〜水色、紫色系へと、波長が短くナノ粒子が小さい色へと変化するグラデーションになっている。 次世代調光調色「Synca」のスポットライトは1灯ずつ丁寧にカラー調整され、ダイクロイックフィルムの色味をより一層際立たせている。 時間帯によって光の色と照度を変更し、様々なイベントシーンを演出することで、光の変化を楽しむことが可能。 Syncaの光が最大限に活用された本施設には、インスピレーションやモノづくりの楽しさを感じて欲しいという想いが込められている。

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